NanoFIB |
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Présentation
La structuration d'échantillons à l'aide d'un faisceau d'ions focalisés
est complémentaire des techniques de lithographies classiques . La différence
essentielle provient du fait que dans ce cas on effectue une structuration directe sans média
intermédiaire (résine, métallisation, attaques) du matériau cible
sous l'impact d'un faisceau d'ions métalliques (Ga+). La structuration peut s'effectuer
au choix soit par injection de dég ts, soit par implantation d'ions, soit par
gravure directe. Ceci en contrôlant la dose ionique incidente pour chaque point balayé
selon le degré de sensibilité de la cible et de l'effet recherché.
Actuellement le LPN développe possède une expertise qui couvre les trois domaines clés :
- Développement des sources d'ions basées sur le principe des sources d 'ions à métal liquide
- Ingéniérie des systèmes d'optique ionique et de l'instrumentation associée
- Applications de la technologie FIB à la nanofabrication
Ce projet a été retenu par la CEE dans le cadre du programme FP5 comme
success story.
Vous pouvez aussi vous reporter au site du projet européen.
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Figure 1 : Représentation schématique de la machine NanoFIB |
Figure 2 : Performance de la machine NanoFIB : la largeur des lignes les plus étroites est de 6 nm. |
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