Centre de Nanosciences et de Nanotechnologies - Campus de Marcoussis
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Physique et Technologie des Nanostructures > Nano-fabrication par faisceaux d'ions focalisés
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NanoFIB

Trait horizontal

Puce Présentation

Trait vertical

Puce Présentation

La structuration d'échantillons à l'aide d'un faisceau d'ions focalisés est complémentaire des techniques de lithographies “classiques ”. La différence essentielle provient du fait que dans ce cas on effectue une structuration directe sans média intermédiaire (résine, métallisation, attaques) du matériau cible sous l'impact d'un faisceau d'ions métalliques (Ga+). La structuration peut s'effectuer au choix soit par injection de dég ts, soit par implantation d'ions, soit par gravure directe. Ceci en contrôlant la dose ionique incidente pour chaque point balayé selon le degré de sensibilité de la cible et de l'effet recherché.

Actuellement le LPN développe possède une expertise qui couvre les trois domaines clés :

  • Développement des sources d'ions basées sur le principe des sources d 'ions à métal liquide
  • Ingéniérie des systèmes d'optique ionique et de l'instrumentation associée
  • Applications de la technologie FIB à la nanofabrication

Ce projet a été retenu par la CEE dans le cadre du programme FP5 comme success story. Vous pouvez aussi vous reporter au site du projet européen.

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Figure 1 : Représentation schématique de la machine NanoFIB Figure 2 : Performance de la machine NanoFIB : la largeur des lignes les plus étroites est de 6 nm.

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